摘要：本發(fā)明提出汞氯化還原加熱腔及用該加熱腔的汞蒸氣發(fā)生裝置及方法。所述氯化汞還原加熱腔，包括腔體，所述腔體用于為氯化汞還原過程提供反應(yīng)空間，蒸汽出口，所述蒸汽出口與所述腔體內(nèi)部相通，用于排出產(chǎn)生的元素汞或氯化汞蒸氣，液體噴射管固定桿，所述液體噴射管固定桿與所述腔體內(nèi)部相通，所述液體噴射管固定桿的內(nèi)部具有液體入口端，載氣入口，所述載氣入口與所述液體噴射管固定桿內(nèi)的液體入口端相通連接，用于提供氣體壓力。通過使用本發(fā)明所述的氯化汞還原加熱腔及用該加熱腔的汞蒸氣發(fā)生裝置及方法，能夠利用氯化汞的化學(xué)還原方法，通過加熱方式可以發(fā)生不同濃度的元素汞或者氯化汞蒸氣，且溫度控制不需要太精確。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京雪迪龍科技股份有限公司;
- 發(fā)明人敖小強(qiáng);楊露露;楊凱;
- 地址102206 北京市昌平區(qū)回龍觀國際信息產(chǎn)業(yè)基地3街3號
- 申請?zhí)?/b>CN201610355223.9
- 申請時(shí)間2016年05月25日
- 申請公布號CN106040110A
- 申請公布時(shí)間2016年10月26日
- 分類號B01J10/00(2006.01)I;B01L7/00(2006.01)I;G01N33/20(2006.01)I;
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