摘要：本發(fā)明涉及光學領域，尤其是涉及一種動態(tài)惰性氣體基底擬合方法。本發(fā)明首先采集氬氣基底圖譜并氬氣基底數(shù)學擬合，然后計算計算修正系數(shù)；接著再采集樣氣圖譜并擬合樣氣基底，然后根據修正系數(shù)進行擬合基底修正；最后計算譜峰面積和濃度的計算。本發(fā)明將數(shù)學擬合基底和惰性氣體基底的優(yōu)點進行合并，同時又互補了彼此的缺點。新方案得到的基底由樣氣圖譜擬合得到，隨實際圖譜動態(tài)變化，同時又加入了惰性氣體圖譜得到的修正系數(shù)，能夠更好的體現(xiàn)出儀器自身固有的一些微小特征，使得基底計算產生的系統(tǒng)誤差更低。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人武漢四方光電科技有限公司;
- 發(fā)明人熊友輝;李立;江坤;劉志強;
- 地址430205 湖北省武漢市東湖新技術開發(fā)區(qū)鳳凰產業(yè)園鳳凰園三路3號
- 申請?zhí)?/b>CN201610050657.8
- 申請時間2016年01月26日
- 申請公布號CN105675580A
- 申請公布時間2016年06月15日
- 分類號G01N21/65(2006.01)I;
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