摘要：本發(fā)明涉及一種筆跡效果模擬方法及裝置，該方法包括以下步驟：獲取當前時刻繪制模擬筆跡的繪制點；以所述繪制點作為坐標原點構建坐標系，并以所述坐標系下待模擬筆跡的筆跡布局函數(shù)的各個點為對稱中心生成對應的基礎圖形，所述基礎圖形由待模擬筆跡獲得；根據(jù)所述坐標系下待模擬筆跡的透明度分布函數(shù)設置各個所述基礎圖形的透明度，得到當前時刻的所述模擬筆跡。本發(fā)明利用筆跡布局函數(shù)及透明度分布函數(shù)，在所構建的坐標系下以基礎圖形代替筆跡布局函數(shù)進行顯示，且根據(jù)該坐標系下的透明度分布函數(shù)設置各個基礎圖形的透明度，能夠實現(xiàn)對用戶自定義的待模擬筆跡的筆跡效果進行模擬，從而豐富繪畫軟件的功能，提高用戶的繪畫體驗。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人廣州視睿電子科技有限公司;
- 發(fā)明人陳天龍;
- 地址510663 廣東省廣州市高新技術產業(yè)開發(fā)區(qū)科學城科珠路192號
- 申請?zhí)?/b>CN201510990945.7
- 申請時間2015年12月23日
- 申請公布號CN105653124A
- 申請公布時間2016年06月08日
- 分類號G06F3/0481(2013.01)I;G06F3/0488(2013.01)I;
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