摘要：本發(fā)明公開了一種投影融合暗場處理方法，包括：確定暗場處理參數(shù)，在接收到輸入圖像后，根據(jù)輸入圖像中的每個像素點的位置信息，獲取位于暗場處理區(qū)域內(nèi)的像素點；根據(jù)暗場處理區(qū)域內(nèi)的各個像素點的亮度信息，獲取位于暗場處理亮度范圍內(nèi)的像素點；根據(jù)暗場處理亮度范圍內(nèi)的各個像素點的顏色信息，依次獲取對應(yīng)顏色的暗場疊加曲線，并分別從暗場疊加曲線上獲取與各個像素點的亮度值對應(yīng)的各個暗場疊加值；分別將各個暗場疊加值附加在相應(yīng)的像素點當(dāng)前的亮度值上，以得到暗場處理后的像素點。本發(fā)明還公開了一種融合設(shè)備。本發(fā)明實現(xiàn)了對暗場像素點的亮度進(jìn)行精準(zhǔn)地調(diào)整，提高了投影融合暗場處理的效率及改善圖像顯示效果。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人深圳市創(chuàng)凱智能股份有限公司;
- 發(fā)明人馬超;李志鴻;
- 地址518000 廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道科技園北區(qū)松坪山新西路7號蘭光科技大樓B座212單位
- 申請?zhí)?/b>CN201510752772.5
- 申請時間2015年11月06日
- 申請公布號CN105430365A
- 申請公布時間2016年03月23日
- 分類號H04N9/31(2006.01)I;
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