摘要：本發(fā)明提供一種導(dǎo)電圖案的形成方法，包括：提供襯底；在襯底的表面的預(yù)設(shè)形成導(dǎo)電圖案的部分形成親水區(qū)域，在襯底的表面的剩余部分形成疏水區(qū)域，其中親水區(qū)域具有與待形成的導(dǎo)電圖案一致的圖案；通過選擇性生長，在親水區(qū)域上形成導(dǎo)電納米線層或?qū)щ娂{米粒子層以形成導(dǎo)電圖案。根據(jù)本發(fā)明實施例的導(dǎo)電圖案的形成方法，可以避免使用相關(guān)技術(shù)中采用刻蝕工藝以除去多余金屬而形成導(dǎo)電圖案的步驟，從而提高原料利用率同時避免污染。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人深圳市華科創(chuàng)智技術(shù)有限公司;溫維佳;曾西平;
- 發(fā)明人溫維佳;曾西平;
- 地址518057 廣東省深圳市南山科技園南區(qū)粵興一道9號香港科技大學(xué)產(chǎn)學(xué)研大樓412
- 申請?zhí)?/b>CN201510113075.5
- 申請時間2015年03月13日
- 申請公布號CN104779014A
- 申請公布時間2015年07月15日
- 分類號H01B13/00(2006.01)I;
教育裝備采購網(wǎng)企業(yè)微信客服
京公網(wǎng)安備11010802043465號
