摘要：本發(fā)明提供了一種聲表面波器件在光刻過(guò)程中的前烘方法，屬于聲表面波器件技術(shù)領(lǐng)域，所述方法包括：將烘箱的溫度穩(wěn)定在160攝氏度，晶片將晶片放入所述烘箱中烘烤；烘烤10分鐘之后將所述烘箱的溫度降至155攝氏度，再烘烤10分鐘之后將所述烘箱的溫度降至150攝氏度，恒溫保持1小時(shí)；將所述烘箱的溫度降至120攝氏度，溫度恒定10分鐘后取出所述晶片。本發(fā)明通過(guò)將晶片的烘烤溫度控制在150攝氏度至160攝氏度，使光刻膠達(dá)到流變狀態(tài)，達(dá)到最大限度的保護(hù)線條作用，減緩側(cè)向腐蝕的速度，實(shí)現(xiàn)厚膜細(xì)線條的目的，從而降低干刻或剝離的工藝復(fù)雜度，同時(shí)也降低了工藝成本。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京中訊四方科技股份有限公司;
- 發(fā)明人董啟明;張敬鈞;
- 地址100194 北京市海淀區(qū)蘇家坨鎮(zhèn)聶各莊路7號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201410407221.0
- 申請(qǐng)時(shí)間2014年08月18日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN104317171A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年01月28日
- 分類號(hào)G03F7/38(2006.01)I;
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