摘要：本發(fā)明公開了一種WS2帶孔納米片/石墨烯復(fù)合納米材料及其制備方法，其由WS2帶孔納米片與石墨烯復(fù)合構(gòu)成，WS2帶孔納米片是單層或少層數(shù)的，WS2與石墨烯之間的物質(zhì)的量之比為1:1?1:3。其制備方法是首先將氧化石墨烯超聲分散在去離子水中，再加入陽離子型柱[5]芳烴超分子，并充分?jǐn)嚢?，然后依次加入L?半胱氨酸和硫代鎢酸銨，充分?jǐn)嚢枋蛊淙芙猓瑢⑸鲜龌旌戏稚Ⅲw系轉(zhuǎn)移到水熱反應(yīng)釜中，于230?250℃下水熱反應(yīng)20?24?h后，自然冷卻至室溫，離心收集固體產(chǎn)物，洗滌、干燥、熱處理獲得。本發(fā)明的方法具有簡單、方便的特點(diǎn)，不需要消耗有機(jī)溶劑。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人浙江大學(xué);
- 發(fā)明人陳衛(wèi)祥;葉劍波;馬琳;王臻;
- 地址310027 浙江省杭州市浙大路38號
- 申請?zhí)?/b>CN201410339886.2
- 申請時(shí)間2014年07月17日
- 申請公布號CN104091932B
- 申請公布時(shí)間2016年09月14日
- 分類號H01M4/36(2006.01)I;H01M4/139(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;
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