摘要：本發(fā)明公開了一種小口徑回轉(zhuǎn)軸對稱光學(xué)元件拋光裝置及方法。該裝置包括密封容器機構(gòu)，安裝于密封容器機構(gòu)內(nèi)腔中的工作臺驅(qū)動系統(tǒng)，與密封容器機構(gòu)連接的拋光流體循環(huán)系統(tǒng)；密封容器機構(gòu)內(nèi)腔上部形成負壓空間。拋光時利用負壓差的吸流效應(yīng)使拋光流體吸出、復(fù)合負壓空穴效應(yīng)對工件面進行加工，將加工的常壓環(huán)境轉(zhuǎn)換為負壓環(huán)境，減少噴射過程中空氣干擾，使拋光點縮小，增強微細磨粒的滑擦作用與穩(wěn)定性；同時負壓空穴效應(yīng)形成強烈的空穴沖擊波和高速微射流，提高了工件表面的去除效率。在磨粒切削與空穴沖蝕共同作用下進行材料去除，獲得高質(zhì)量的表面。該裝置適用于各種回轉(zhuǎn)對稱曲面光學(xué)元件的拋光加工，對于自動化加工有很高的實用價值。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人湖南大學(xué);
- 發(fā)明人陳逢軍;尹韶輝;胡天;余劍武;許志強;
- 地址410082 湖南省長沙市岳麓區(qū)麓山南路2號
- 申請?zhí)?/b>CN201210399583.0
- 申請時間2012年10月19日
- 申請公布號CN102873643B
- 申請公布時間2014年06月18日
- 分類號B24C3/02(2006.01)I;B24C7/00(2006.01)I;B24C9/00(2006.01)I;B24C5/00(2006.01)I;
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