摘要：本發(fā)明公開了一種噴射沉積制備中空盤件的方法，包括以下步驟：首先，采用噴射沉積工藝在基體上成型出該中空盤件的底層，在底層上置放金屬輻盤或模塊，然后在底層上繼續(xù)進(jìn)行噴射沉積，直至成型出該中空盤件的頂層，得到噴射沉積坯件；去除金屬輻盤或模塊外露于噴射沉積坯件的部分，得到包埋金屬輻條的噴射沉積坯件；再對(duì)噴射沉積坯件進(jìn)行壓制或熱壓以進(jìn)行致密化，最后進(jìn)行熱處理，利用熱處理過程中的加熱保溫階段熔出金屬輻條，獲得中空盤件成品；金屬輻盤或模塊主要采用熔點(diǎn)高于噴射沉積過程中沉積層溫度、且熔點(diǎn)低于所述熱處理時(shí)加熱溫度的材料制作。本發(fā)明工藝的成本低廉、工藝步驟簡(jiǎn)單，得到的產(chǎn)品組織均勻、性能優(yōu)越且材料利用率高。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人湖南大學(xué);
- 發(fā)明人陳剛;嚴(yán)紅革;涂川俊;黃建軍;
- 地址410082 湖南省長(zhǎng)沙市河西麓山南路2號(hào)湖南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201110400685.5
- 申請(qǐng)時(shí)間2011年12月06日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102424946A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年04月25日
- 分類號(hào)C23C4/12(2006.01)I;C23C4/18(2006.01)I;
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