摘要：本發(fā)明公開了一種晶體控溫裝置及其使用方法。該晶體控溫裝置，包括熱沉、晶體固定裝置和基座，所述晶體固定裝置通過第一固定裝置固定在熱沉的上部，所述晶體固定裝置和熱沉共同形成晶體容納腔，所述熱沉的下部通過第二固定裝置固定在基座上，所述熱沉的中部設(shè)置有散熱管道，在散熱管道的兩端設(shè)置有閥門，用于連接外界的散熱源。采用本發(fā)明能解決皮秒紫外激光器(尤其是平均功率在瓦級(jí)以上、重復(fù)頻率在兆赫茲以上的連續(xù)鎖模皮秒紫外激光器)的散熱問題，使皮秒紫外激光器能夠穩(wěn)定功率且連續(xù)工作在4個(gè)小時(shí)以上，滿足工業(yè)需求。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京國(guó)科世紀(jì)激光技術(shù)有限公司;中國(guó)科學(xué)院光電研究院;
- 發(fā)明人樊仲維;麻云鳳;牛崗;
- 地址100192 北京市海淀區(qū)西小口路66號(hào)東升科技園北領(lǐng)地C區(qū)7號(hào)樓二層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201010262439.3
- 申請(qǐng)時(shí)間2010年08月25日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102377093A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年03月14日
- 分類號(hào)H01S3/042(2006.01)I;
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