摘要：本發(fā)明公開了一種陷印區(qū)域預覽的方法及系統(tǒng)，屬于印前處理技術領域。該方法及系統(tǒng)通過在陷印對象和陷印層之間添加白色透明預覽層，對陷印對象進行淡化處理，從而凸顯陷印區(qū)域。通過本發(fā)明方法及系統(tǒng)進行陷印預覽，可以使印前人員方便地進行檢查，識別需要修改的陷印區(qū)域。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人方正國際軟件(北京)有限公司;
- 發(fā)明人具永蘭;王槐明;金超;張琴;
- 地址100080 北京市海淀區(qū)北四環(huán)西路52號中芯大廈19層
- 申請?zhí)?/b>CN200910090045.1
- 申請時間2009年07月28日
- 申請公布號CN101969518A
- 申請公布時間2011年02月09日
- 分類號H04N1/00(2006.01)I;H04N1/58(2006.01)I;G06F3/12(2006.01)I;
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