摘要：一種筆跡書寫的方法及裝置，其在捕捉到采樣點后，使用預(yù)設(shè)第一修正模板對該采樣點進行修正，得到第一修正點的位置坐標，如果該第一修正點與上一個采樣點的修正點之間的投影距離大于了預(yù)定距離，則用預(yù)設(shè)第二修正模板重新對采樣點進行修正，得到第二修正點的位置坐標，并將第二修正點作為該當前采樣點的最終修正點，否則將上述第一修正點作為該當前采樣點的最終修正點，最后將該最終修正點與上一采樣點的修正點進行連接，由于沒有丟棄采樣點，且通過采用兩個模板有選擇性地對各采樣點進行修正，以滿足預(yù)先設(shè)定的條件，可使得修正后的繪制出來的曲線滿足平滑的書寫效果，從而可以有效地防止尖點及抖動現(xiàn)象，使書寫筆跡流暢。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人廣東威創(chuàng)視訊科技股份有限公司;
- 發(fā)明人李俊文;徐蜀中;
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- 申請?zhí)?/b>CN200810198991.3
- 申請時間2008年10月07日
- 申請公布號CN101377856B
- 申請公布時間2011年06月29日
- 分類號G06T11/80(2006.01)I;
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