摘要：一種平面反射式復(fù)眼冷光源曝光系統(tǒng)，屬于光刻技術(shù)領(lǐng)域。包括：燈源組、多面鏡組裝置、反光鏡組、曝光裝置等，其特征在于，多面鏡組裝置，包括上層鏡座、下層鏡座，上層鏡座緊密疊合于下層鏡座上；上層鏡座包括：上盤(pán)、上鏡片壓圈、上盤(pán)反光片，上鏡片壓圈置于上盤(pán)、上盤(pán)反光片之間，上盤(pán)反光片依次緊密環(huán)行成圈放列于上盤(pán)內(nèi)；下層鏡座結(jié)構(gòu)類似上層鏡座。反光鏡組包括：小反光鏡組、大反光鏡組，小反光鏡組、大反光鏡組平行對(duì)峙放置，并與水平夾角為45°。一種光刻機(jī)，其特征在于，包括所述的帶有平面反射式復(fù)眼冷光源曝光系統(tǒng)。本發(fā)明提出了多層反射鏡的位置排列，大大提高了曝光均勻性，并拓展為更大的曝光面積。
- 專利類型發(fā)明專利
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- 發(fā)明人張?jiān)婪?
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- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200810037366.0
- 申請(qǐng)時(shí)間2008年05月14日
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- 申請(qǐng)公布時(shí)間2009年01月21日
- 分類號(hào)G02B27/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);
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